供应全自动单，多晶硅清洗设备

1）主要用于单、多晶硅太阳能电池 
     片生产,刻蚀后的清洗。 
2）工艺流程： 上料→HF腐蚀+氮气鼓泡→QDR +氮气鼓泡+喷→ 下料→离心机甩干 
3）设备采用单臂机械手，其工艺时间可以 自行调节。能显示温度曲线、浓度变化 曲线，及各个工位的工作状态。酸槽具 有自动补液装置，可实现无间断生产。 具有设备报警说明，报警历史查询功能。 对清洗用纯水有电阻率监测装置，能存  储10个以上工艺方案； 
4）标准工艺下产量：125mm×125mm、  156mm×156mm，210mm×210mm 的硅片，厚度为160±30——200±30 微米的硅片，硅片产能不低于1200片/小时 设备开工率＞92﹪，碎片率≤3‰。